Intel és ASML sorozatgyártásba vette a High-NA-EUV chipgyártási technológiát

Az Intel Foundry az Intel-18A gyártási folyamatban használja az ASML High-NA-EUV technológiáját a Panther Lake kódnevű processzorok előállításához. Az új litográfiai eljárás extrémen ultraibolya fényt (13,5 nanométeres hullámhosszúságú) használ, és lehetővé teszi 10 nanométernél finomabb szerkezetek létrehozását. Az első processzorok már eljutottak az ügyfelekhez, és a termelési hozam megegyezik az előző generációs EUV-rendszerek szintjével.

A High-NA-EUV technológia az EUV-litográfia következő fejlődési lépcsője, amely sűrűbb szerkezeteket és energiahatékonyabb chipeket tesz lehetővé. Ez különösen fontos az mesterséges intelligencia alkalmazásaihoz szükséges processzorok fejlesztésében. Az ASML vezetője, Christophe Fouquet szerint az új eljárás »jelentős előrelépést« jelent a félvezetőlitográfiában.

Az Intel és az ASML évtizedek óta együttműködik az új litográfiai eljárások fejlesztésében. Az Intel 2024-ben elsőként integrálta az első kereskedelmi High-NA-EUV-rendszert oregoni kutatási központjában, majd az ASML legkorszerűbb TWINSCAN EXE:5200B berendezésének második generációját is telepítette. A két vállalat közös munkája során szerzett tapasztalatok segítségével optimalizálják az eszközöket és a gyártási folyamatokat.

Az ASML szerdai negyedéves jelentése erős piaci teljesítményt mutatott, amely az ASML részvényt körülbelül 7 százalékkal felhajtotta az európai kereskedésben. Az Intel és az ASML bejelentette, hogy folytatják együttműködésüket a technológia integrálásában a jövőbeli gyártási generációkba az ügyfelek igényei szerint.